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半导体光刻胶市场调研：2030年全球市场规模有望达到42.7亿美元--QYResearch
发布日期：2024-11-11
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微博据QYResearch调研团队最新发布的《全球半导体光刻胶市场报告2024-2030》预测，至2030年，全球半导体光刻胶市场规模有望达到42.7亿美元，未来几年将以7.0%的复合年增长率（CAGR）稳健增长。
半导体光刻胶在分立器件、LED及集成电路等产品的制造中扮演着核心角色。随着市场对半导体产品小型化、功能多样化的迫切需求，半导体光刻胶技术不断革新，通过缩短曝光波长来提升极限分辨率，从而满足集成电路更高密度的集成要求。依据曝光波长的不同，半导体光刻胶被细分为六大类：紫外宽谱（300-450nm）、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及EUV（13.5nm）。
全球半导体行业规模庞大，根据世界半导体贸易统计组织（WSTS）的数据，2023年全球半导体行业市场规模达到5268亿美元，尽管较2022年下降了8.2%，但预计到2030年，这一数字将攀升至8500亿美元，为光刻胶市场的持续增长提供强劲动力。
此外，QYResearch的报告还揭示了全球半导体光刻胶市场的竞争格局。从国际市场占有率来看，东京应化（TOK）、JSR、信越化学（Shin-Etsu）、DuPont和富士胶片（Fujifilm）等五大厂商占据了约86.6%的市场份额。而在中国市场，这四大厂商（除DuPont外）则占据了约73%的市场份额。
在生产端，日本和美国是两大重要的生产基地，2023年分别占据了46.8%和30.2%的市场份额。然而，未来几年，中国预计将保持最快的增速，其市场份额将从2023年的2.47%提升至2030年的5.28%。
从类型来看，ArF和KrF光刻胶目前占据主导地位，合计市场份额达到73%。近年来，5G、人工智能（AI）、数据中心/服务器以及新能源汽车等领域的快速发展，推动了全球半导体行业规模的稳步增长。特别是人工智能的快速增长，对尖端半导体工艺的需求激增，进而带动了高端光刻胶的需求。以台积电为例，其2023年尖端工艺（3nm、5nm和7nm）占总营收的比重已达到58%，而预计到2024年第三季度和第四季度，这一比例将分别提升至67%和69%。
展望未来，EUV光刻胶预计将保持最快的增长速度，其市场份额有望从2023年的9.9%增长至2030年的21.3%。如需了解更多行业详情，请关注恒州博智(QYR)发表的《2024-2030中国半导体光刻胶市场现状研究分析与发展前景预测报告》。
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此外，QYResearch的报告还揭示了全球半导体光刻胶市场的竞争格局。从国际市场占有率来看，东京应化（TOK）、JSR、信越化学（Shin-Etsu）、DuPont和富士胶片（Fujifilm）等五大厂商占据了约86.6%的市场份额。而在中国市场，这四大厂商（除DuPont外）则占据了约73%的市场份额。
在生产端，日本和美国是两大重要的生产基地，2023年分别占据了46.8%和30.2%的市场份额。然而，未来几年，中国预计将保持最快的增速，其市场份额将从2023年的2.47%提升至2030年的5.28%。
从类型来看，ArF和KrF光刻胶目前占据主导地位，合计市场份额达到73%。近年来，5G、人工智能（AI）、数据中心/服务器以及新能源汽车等领域的快速发展，推动了全球半导体行业规模的稳步增长。特别是人工智能的快速增长，对尖端半导体工艺的需求激增，进而带动了高端光刻胶的需求。以台积电为例，其2023年尖端工艺（3nm、5nm和7nm）占总营收的比重已达到58%，而预计到2024年第三季度和第四季度，这一比例将分别提升至67%和69%。
展望未来，EUV光刻胶预计将保持最快的增长速度，其市场份额有望从2023年的9.9%增长至2030年的21.3%。如需了解更多行业详情，请关注恒州博智(QYR)发表的《2024-2030中国半导体光刻胶市场现状研究分析与发展前景预测报告》。
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