计算光刻软件市场报告：预计2029年将达到40.89亿美元--QYResearch

根据恒州博智发布的计算光刻软件市场报告，本文研究全球及中国市场计算光刻软件现状及未来发展趋势，侧重分析全球及中国市场的主要企业，同时对比北美、欧洲、中国、日本、东南亚和印度等地区的现状及未来发展趋势。

制造计算机芯片需要一个称为计算光刻的关键步骤，这是一种复杂的计算，涉及电磁物理、光化学、计算几何、迭代优化和分布式计算。这一计算光刻步骤已经是半导体生产中最大的计算工作负载之一，需要大量数据中心，并且随着时间的推移，硅小型化演进过程会呈指数级放大计算需求。几十年来，为制造过程创建掩模的任务一直是半导体制造的一个组成部分。随着转向5纳米、3纳米到2纳米等更先进的节点，加快计算光刻周转时间有助于半导体制造公司高效制造芯片。

半导体和微电子行业对于光刻技术的需求不断增长，推动了计算光刻软件的发展。随着芯片制造工艺的不断提升，对精确度、分辨率和效率等方面的要求也在不断提高，计算光刻软件需要提供先进的算法和功能来满足这些需求。

光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，在半导体制造中，光刻有助于确定芯片晶体管的尺寸。与照相过程中将底片图像曝光到纸张上的方式类似，通过光刻成像系统，光刻过程使用光在硅晶圆上产生代表芯片设计的图案。

随着晶体管尺寸的缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变，光刻工艺必须变得更加精确，才能以更高的精度将图案从光掩模转移到晶圆上。在尺寸非常小的情况下，当特征靠得更近时，通常无法在晶圆上获得掩模图案的清晰且准确的表示。光的漫射会影响分辨率，导致模糊或失真。计算光刻技术的出现是为了补偿可能源于衍射或光学、抗蚀剂和蚀刻邻近效应的任何图像错误。



2022年全球计算光刻软件市场规模达到了16.61亿美元，预计2029年将达到40.89亿美元，年复合增长率（CAGR）为14.22%。

地区层面来看，中国市场在过去几年变化较快，2022年市场规模为275.02百万美元，约占全球的16.55%，预计2029年将达到785.92百万美元，届时全球占比将达到19.22%。

在 90nm 甚至 180nm 以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为 OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有 OPC，所有 IC 制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。光学邻近效应修正（OPC）占据主导地位，2022年收入为690.51百万美元，预计2029年达到1780.96百万美元，期间CAGR为15.03%。

全球计算软件市场集中程度很高，已经有一些知名厂商和产品占据了市场份额。这些厂商通常具有丰富的行业经验和客户基础，拥有与客户建立合作关系的渠道和资源优势。目前全球主要企业包括ASML、KLA、Siemens、Synopsys和Cadence等，2022年Top3企业份额占比超过80%。

计算光刻软件需要基于复杂的数学算法和物理模型进行光学、电磁和化学等过程的建模和仿真。这些算法和模型的研究和开发需要涉及光学、物理、数学和计算机科学等多个领域的专业知识。另外，计算光刻软件需要处理大量的芯片设计数据和图形数据，并进行高性能的计算和仿真。因此，计算光刻软件对于数据处理和计算能力的要求较高，包括适应大规模数据处理的算法优化和并行计算技术等。同时，计算光刻软件还需要与其他软件和设备进行协同工作，要求具备良好的软件集成和接口技术。这些技术壁垒对于新进入者而言是一定的挑战，需要具备相关的技术和资源才能在市场上获得竞争优势。


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